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双极性脉冲电源
通过可变波形提高精确度，为双阴极系统设计的双极性脉冲电源。• 交变的脉冲特性• 功率范围5 kW~30 kW• 先进的电弧管理• 通过灵活的脉冲参数设置，优化工艺• 先进的电弧控制，实现无缺陷膜层• 脉冲频率可达2*50kHz（正负半圈）特性：• 8 个功率模式：从纯粹的直流到双极脉动直流，多面直角的输出电压波形• 独立的调节正、负脉冲占空比• 整个脉冲范围均实现电弧精确处理•...
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高功率脉冲电源
激发能确保镀膜质量优异的高密度等离子体，高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)电源可助您获得出色的镀膜结果。• 获得的膜层在均质性、硬度、耐磨损性和粘性方面性能优异。• 可以作为直流磁控溅镀电源的替代，使用现有的磁控溅射系统，而无需设备改造。• 多重离子化和离子定向使其可以用于沟道填充等工艺。特性：• 功率最高达8 MW• 电弧反应灵敏• 脉冲持续时间和频率设置灵活• 实时调节和监控脉冲•...
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偏压电源
Trulasma Bias 3000偏压电源系列是适用磁控溅镀工艺的多用电源，分两种工作模式：用于基材刻蚀工艺的 1200 V 高压模式，以及用于支持偏压膜层沉积工艺的 300 V 低压模式。• 快速的电弧管理系统• 先进的监控和控制系统，确保工艺流程稳定性高、重复性好TruPlasma Bias 4000 偏压电源系列能够优化您的脉冲直流电等离子体工艺。 该设备分两种工作模式：用于基材刻蚀工艺的...
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弧电源
利用真空电弧离子镀获得性能优异的硬质镀膜，利用真空电弧离子镀获得性能优异的硬质镀膜！• 动态的电流调节器确保沉积过程稳定和分布均匀• 特别适合电弧阴极加工工艺• 多种通讯接口使该电源与其它设备集成方便特性：• 功率和调节设计独特，稳定性高• 集成式电子点火电路和单独的点火输出端• 快速的 DSP 控制，确保电弧稳定性• 电流选择范围广，支持多种应用• 电压、电流和功率调节同步客户效益：•...
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RF 射频电源
TruPlasma RF 1000射频电源系列——生产率高，工艺流程稳定功率耦合技术Combiner （CombineLine 组合式输出控制电路）和优化功率转化技术相结合，提高了射频等离子体应用的生产效率。• 真实输出阻抗 50Ω，工艺流程稳定• 功率可以在 1 W~3000 W 间精确调节• 紧凑的半 19"设计特性：• 功率因数80%• 稳定性高、可靠性高• 输出阻抗 50Ω•...
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MF 中频电源
TruPlasma MF 3000 中频电源系列——最高水平的等离子体激发• 结构特别紧凑• 适合用作中、小功率电源• 功率涵盖 10 kW 至 40 kW 的范围• 在双磁控管溅镀工艺上已经得到市场的认可特性：• 快速的电弧管理系统，正弦波的输出波形• 宽泛的输出功率范围• 领先的电源技术客户效益：• 即使在高要求的工艺中也能实现高速的沉积率• 满足不同工艺应用的需求• 可靠性高TruPlasma...
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DC 直流电源
TruPlasma DC 3000 直流电源系列性能优异。• 结构紧凑、可靠性高• 先进的电弧管理技术显著减少电弧的残存能量• 低电弧能量和快速的恢复输出使均匀的膜层成为可能• 不断提高工艺流程的结果特性：• 宽泛的功率和频率范围• 先进的电弧管理技术，极低的电弧剩余能量• 灵活的电弧管理系统• 多样的用户使用接口• 可靠性高，使用寿命长客户效益：• 支持多种工艺和应用• 沉积超薄、均匀的膜层•...
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